סיליקאַ געל דזשז-פּסג
באַשרייַבונג
כעמישער סטאַביל, נאָנטאָקסיק, אָנ אַ טאַם, ענלעך צו פייַן-פּאָרע סילאַקאַ געל.
די סעלעקטיוו אַדסאָרפּטיווע פיייקייט איז העכער ווי פייַן-פּאָרע סילאַקאַ געל.
אַפּפּליקאַטיאָן
1.מאַינלי געניצט פֿאַר די אָפּזוך, צעשיידונג און פּיוראַפייינג פון טשאַד דייאַקסייד גאַז.
2.עס איז געניצט פֿאַר צוגרייטונג פון טשאַד דייאַקסייד אין סינטעטיש אַמאָוניאַ אינדוסטריע, עסנוואַרג & בעוועראַגע פּראַסעסינג אינדוסטריע, עטק.
3. עס קען אויך זיין געניצט פֿאַר דרייינג, נעץ אַבזאָרפּשאַן און דעוואַטערינג פון אָרגאַניק פּראָדוקטן.
ספּעציפיקאַציע
| נומער | אַפּאַראַט | ספּעסאַפאַקיישאַנז | |
|
סטאַטיק אַדסאָרפּטיאָן קאַפּאַציטעט 25 ℃ | RH=20% | ≥% | 10.5 |
| RH=50% | ≥% | 23 | |
| RH=90% | ≥% | 36 | |
| SI2O3 | ≥% | 98 | |
| LOI | ≤% | 2.0 | |
| פאַרנעם געדיכטקייַט | ≥ג/ל | 750 | |
| קוואַלאַפייד ראַציע פון ספעריש גראַניאַלז | ≥% | 85 | |
| קוואַלאַפייד גרייס פאַרהעלטעניש | ≥% | 94 | |
| סטאַטיק נ2 אַדסאָרפּטיאָן קאַפּאַציטעט | מל/ג | 1.5 | |
| סטאַטיק קאָ2 אַדסאָרפּטיאָן קאַפּאַציטעט | מל/ג | 20 | |
נאָרמאַל פּאַקקאַגע
25 קג / וואָווען זעקל
ופמערקזאַמקייַט
דער פּראָדוקט ווי דעסיקקאַנט קענען ניט זיין יקספּאָוזד אין די עפענען לופט און זאָל זיין סטאָרד אין אַ טרוקן צושטאַנד מיט לופט-דערווייַז פּעקל.